[发明专利]荧光强度校正方法、校正程序、计算方法和计算装置有效

专利信息
申请号: 201110236664.4 申请日: 2011-08-17
公开(公告)号: CN102410879A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 酒井启嗣 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: G01J3/30 分类号: G01J3/30;G01J3/46
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开了荧光强度校正方法、校正程序、计算方法和计算装置。荧光强度校正方法包括:接收从荧光染料发出的荧光,从每个光检测器收集检测值,并且获取每种荧光染料的荧光光谱作为一个光谱组;将所获取的光谱组分离成多个小光谱组;将所分离的小光谱组与预先所获取的每种荧光染料的荧光波长分布进行比较,并将该小光谱组指定为任意荧光染料的荧光光谱;将在没有被指定的小光谱组和一个或多个指定的小光谱组之间的差分光谱与预先所获取的未被指定的荧光染料的荧光波长分布进行比较,并且将该差分光谱指定为任意荧光染料的荧光光谱;并且计算从每种荧光染料发出的荧光的强度。
搜索关键词: 荧光 强度 校正 方法 程序 计算方法 计算 装置
【主权项】:
一种荧光强度校正方法,包括:通过具有不同光接收波长带的多个光检测器接收通过将光照射在由多种荧光染料多重标记的微粒上所激发的荧光染料所发出的荧光,从每个光检测器收集检测值,并且获取每种荧光染料的荧光光谱作为一个光谱组;将所获取的光谱组分离成多个小光谱组;将所分离的小光谱组与预先获取的每种荧光染料的荧光波长分布进行比较,并将所述小光谱组指定为任意荧光染料的荧光光谱;将没有被指定为任意荧光染料的荧光光谱的小光谱组和一个或多个被指定的小光谱组之间的差分光谱与未被指定的荧光染料的预先获取的荧光波长分布进行比较,并且将所述差分光谱指定为任意荧光染料的荧光光谱;以及对于所述小光谱组或所述差分光谱被指定的荧光染料使用所述小光谱组或所述差分光谱的荧光波长分布、并且对于所述小光谱组或所述差分光谱没有被指定的荧光染料使用预先获取的荧光波长分布,来计算从每种荧光染料发出的荧光强度。
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