[发明专利]复合光子筛投影式光刻系统

摘要

本发明涉及微纳加工技术领域，公开了一种复合光子筛投影式光刻系统，该系统包括依次放置的照明系统、掩模板、复合光子筛和衬底，其中：照明系统，用于产生入射光，并将该入射光照射至掩模板；掩模板，用于提供复合光子筛成像的物方，入射光透过掩模板后被照射至复合光子筛；复合光子筛，用于实现成像功能，将掩模板上的图形在衬底上成像；衬底，用于接收复合光子筛对掩模板上图形所成的像。利用本发明，由于采用复合光子筛代替传统投影式光刻系统中的投影物镜，不仅能够保留传统投影式光刻系统效率高的优点，实现快速的大批量光刻，提高光刻效率，而且可以有效地降低成本，减小系统体积。

主权项

一种复合光子筛投影式光刻系统，其特征在于，该系统包括依次放置的照明系统(1)、掩模板(2)、复合光子筛(3)和衬底(4)，其中：照明系统(1)，用于产生入射光，并将该入射光照射至掩模板(2)；掩模板(2)，用于提供复合光子筛(3)成像的物方，入射光透过掩模板(2)后被照射至复合光子筛(3)；复合光子筛(3)，用于实现成像功能，将掩模板(2)上的图形在衬底(4)上成像；衬底(4)，用于接收复合光子筛(3)对掩模板(2)上图形所成的像。