[发明专利]一种基于柔性衬底的忆阻器器件及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201110230879.5 申请日: 2011-08-12
公开(公告)号: CN102931345A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 刘明;李颖弢;龙世兵;刘琦;吕杭炳 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周国城
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于柔性衬底的忆阻器器件及其制作方法。所述基于柔性衬底的忆阻器器件,包括:柔性衬底;形成于该柔性衬底之上的下电极;形成于该下电极之上的记忆存储层;以及形成于该记忆存储层之上的上电极。所述制作基于柔性衬底的忆阻器器件的方法,包括:提供一柔性衬底;在该柔性衬底之上生长下电极;在该下电极之上生长记忆存储层;以及在该记忆存储层之上生长上电极。本发明提供的忆阻器器件具有结构简单、可弯曲、质量轻、便于携带等优点,大大拓宽了忆阻器器件的使用范围。
搜索关键词: 一种 基于 柔性 衬底 忆阻器 器件 及其 制作方法
【主权项】:
一种基于柔性衬底的忆阻器器件,其特征在于,包括:柔性衬底(100);形成于该柔性衬底(100)之上的下电极(101);形成于该下电极(101)之上的记忆存储层(102);以及形成于该记忆存储层(102)之上的上电极(103)。
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