[发明专利]氟氧化镧铈稀土抛光液及其制备方法有效
申请号: | 201110228791.X | 申请日: | 2011-08-10 |
公开(公告)号: | CN102337086A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 尹先升;高玮;赵月昌;杨筱琼;陈曦;赵秀娟 | 申请(专利权)人: | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 |
主分类号: | C09G1/04 | 分类号: | C09G1/04 |
代理公司: | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人: | 罗大忱 |
地址: | 201613*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种氟氧化镧铈稀土抛光液及其制备方法,所述氟氧化镧铈稀土抛光液,以水为载体,含有氟氧化镧铈抛光粉、分散剂和pH值调节剂;分散剂的含量为抛光液总质量的0.5~1wt%,pH值调节剂的用量,以抛光液pH值达到8.5-10.0为准,所述抛光液质量固含量为25-45wt%,铈占镧铈总质量的60-80wt%,氟的质量分数为氟氧化镧铈总质量的3-5wt%。本发明对氧化硅玻璃具有悬浮性稳定性高、抛光速率快、划伤少和耐磨性高的性能特征,对应稀土颗粒粒度小,通过添加pH值调节剂和有机分散剂,从而延缓了液料中磨料的沉降,提高了抛光液对玻璃基片的抛光速率,并减少了划伤的发生。 | ||
搜索关键词: | 氧化 稀土 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
氟氧化镧铈稀土抛光液,其特征在于,以水为载体,含有氟氧化镧铈抛光粉、分散剂和pH值调节剂;其中,分散剂的含量为抛光液总质量的0.5~1wt%,pH值调节剂的用量,以抛光液pH值达到8.5 10.0为准,所述抛光液质量固含量为25 45wt%,铈占镧铈总质量的60 80wt%,氟的质量分数为氟氧化镧铈总质量的3 5wt%。
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