[发明专利]光照射装置和光照射方法有效
| 申请号： | 201110222281.1 | 申请日： | 2011-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN102419516A | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | 仲田重范;川村直树 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/30 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 夏斌;陈萍 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供能在掩模的图案中形成忠实且析像度高的图案的光照射装置和光照射方法。本发明的光照射装置，其特征在于：具备：光射出部，所述光射出部具有将多个光源元件在一个方向上并排地配置而构成的光源元件列，所述光源元件由短弧型放电灯、和以包围该放电灯的方式配置的将来自该放电灯的光反射的反射体构成；和掩模，所述掩模将分别在与上述一个方向垂直的方向上延伸的线状的多个遮光部和多个透光部在上述一个方向上交替并排地配置而构成，来自上述光射出部的光经上述掩模而照射被照射物。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光照射装置，其特征在于，具备：光射出部，所述光射出部具有将多个光源元件在一个方向上并排地配置而构成的光源元件列，所述光源元件由短弧型放电灯、和以包围该放电灯的方式配置的将来自该放电灯的光反射的反射体构成；和掩模，所述掩模将分别在与上述一个方向垂直的方向上延伸的线状的多个遮光部和多个透光部在上述一个方向上交替并排地配置而构成，来自上述光射出部的光经上述掩模而照射在被照射物上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于优志旺电机株式会社，未经优志旺电机株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110222281.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种流延聚酯薄膜及其制备方法
- 下一篇：一种硬岩掘进机盘形重型滚刀
