[发明专利]投影光学系统和图像投影装置有效

专利信息
申请号: 201110217870.0 申请日: 2011-07-21
公开(公告)号: CN102346303A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: 安部一成;藤田和弘;高桥达也 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B17/08;G02B27/14;G02B13/18;G03B21/14;G03B21/28
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 丁利华
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种投影光学系统和图像投影装置,该投影光学系统包括第一光学系统、第二光学系统以及第一和第二反射镜。第一和第二反射镜被布置在图像形成元件和第二光学系统的反射面之间的光路上,以便从第二反射镜到反射面的光束的光路的方向包含与从图像形成元件到第一光学系统的预定方向相反的方向的分量,并且在共轭面上依次排列图像形成元件在共轭面上的投影图像、反射面到共轭面上的投影和图像形成元件到共轭面上的投影。
搜索关键词: 投影 光学系统 图像 装置
【主权项】:
一种投影光学系统,所述投影光学系统被布置成使得从在第一共轭面上的图像形成元件输出的多个光束倾斜进入第二共轭面,并且所述投影光学系统将通过所述图像形成元件形成的图像的放大图像投影在所述第二共轭面上,其特征在于,所述投影光学系统包含:第一光学系统,所述第一光学系统被设置在所述图像形成元件和所述第二共轭面之间的第一光路上并且包括折射光学系统;第二光学系统,所述第二光学系统被设置在所述第一光路上的所述第一光学系统的下游位置处并且包括具有正光焦度的反射面;和第一和第二反射镜,所述第一和第二反射镜被依次在设置所述图像形成元件和所述反射面之间的第二光路上以沿所述第二光路反射所述光束,其中,所述第一和第二反射镜被布置成:从所述第二反射镜到所述反射面的所述光束的光路的方向包含与从所述图像形成元件到所述第一光学系统的预定方向相反的方向的分量,并且在所述第二共轭面上依次排列所述图像形成元件在所述第二共轭面上的投影图像、所述反射面到所述第二共轭面上的投影和所述图像形成元件到所述第二共轭面上的投影。
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