[发明专利]投影光学系统和图像投影装置有效

专利信息
申请号: 201110217870.0 申请日: 2011-07-21
公开(公告)号: CN102346303A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: 安部一成;藤田和弘;高桥达也 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B17/08;G02B27/14;G02B13/18;G03B21/14;G03B21/28
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 丁利华
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 投影 光学系统 图像 装置
【权利要求书】:

1.一种投影光学系统,所述投影光学系统被布置成使得从在第一共轭面上的图像形成元件输出的多个光束倾斜进入第二共轭面,并且所述投影光学系统将通过所述图像形成元件形成的图像的放大图像投影在所述第二共轭面上,其特征在于,所述投影光学系统包含:

第一光学系统,所述第一光学系统被设置在所述图像形成元件和所述第二共轭面之间的第一光路上并且包括折射光学系统;

第二光学系统,所述第二光学系统被设置在所述第一光路上的所述第一光学系统的下游位置处并且包括具有正光焦度的反射面;和

第一和第二反射镜,所述第一和第二反射镜被依次在设置所述图像形成元件和所述反射面之间的第二光路上以沿所述第二光路反射所述光束,

其中,所述第一和第二反射镜被布置成:从所述第二反射镜到所述反射面的所述光束的光路的方向包含与从所述图像形成元件到所述第一光学系统的预定方向相反的方向的分量,并且在所述第二共轭面上依次排列所述图像形成元件在所述第二共轭面上的投影图像、所述反射面到所述第二共轭面上的投影和所述图像形成元件到所述第二共轭面上的投影。

2.如权利要求1所述的投影光学系统,其特征在于,所述第一反射镜和所述第二反射镜中的至少一个被设置在所述图像形成元件和透镜之间的光路上,所述透镜被包括在所述第一光学系统中并具有最大负光焦度。

3.如权利要求1所述的投影光学系统,其特征在于,所述图像形成元件是由微镜装置形成的并且被布置为形成非远心光学系统。

4.如权利要求1所述的投影光学系统,其特征在于,设置在最接近孔径光阑的位置处的所述第一光学系统的光学表面具有非球面表面构造。

5.如权利要求1所述的投影光学系统,其特征在于,设置在最接近所述反射面的位置处的所述第一光学系统的光学表面具有非球面表面构造。

6.如权利要求1所述的投影光学系统,其特征在于,所述反射面具有自由形式表面构造。

7.一种图像投影装置,其特征在于,所述图像投影装置包含:

如权利要求1所述的投影光学系统;

发射照明光的光源;和

依照调制信号通过所述照明光形成图像的图像形成元件,

其中,所述图像投影装置被布置成:将通过所述光源发射的所述照明光提供给所述图像形成元件,并且通过使用所述投影光学系统将通过所述图像形成元件形成的图像的放大图像投影到屏幕上。

8.如权利要求7所述的图像投影装置,其特征在于,所述第二光学系统和所述第二反射镜中的至少一个被布置成当使用所述图像投影装置时从所述图像投影装置的壳体完全或者部分突出,并且所述第二光学系统和所述第二反射镜中的所述至少一个被布置成是能够移动的,以便当不使用所述图像投影装置时,所述第二光学系统和所述第二反射镜中的所述至少一个被容纳在所述壳体中。

9.如权利要求8述的图像投影装置,其特征在于,所述第二光学系统和所述第二反射镜中的至少一个被布置成绕预定轴是能够旋转的。

10.如权利要求8述的图像投影装置,其特征在于,所述第二光学系统和所述第二反射镜中的至少一个被布置成在所述壳体的厚度的方向上是能够移动的。

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