[发明专利]模具吸真空清洁装置

摘要

本发明涉及一种半导体行业的模具吸真空清洁装置，包括在直线导轨上滑动安装的滑块，在滑块上固定有吸尘管，吸尘管上并联安装有上模板吸尘罩与下模板吸尘罩，在上模板吸尘罩的前后壁体之间安装有上滚刷，在上滚刷左右两侧的上模板吸尘罩壁体上均固定有上密封挡片，在下模板吸尘罩的前后壁体之间安装有下滚刷，在下滚刷左右两侧的下模板吸尘罩壁体上均固定有下密封挡片。本发明提高了模具中异物质被去除的几率；本发明操作简单，方便技术人员的修理；本发明持久耐用，减少反复购买备件的费用；本发明中的圆形滚刷的更换方便快捷，减少设备停机时间。

主权项

一种模具吸真空清洁装置，其特征是：包括在直线导轨（1）上滑动安装的滑块（2），在滑块（2）上固定有吸尘管（9），吸尘管（9）上并联安装有上模板吸尘罩（3）与下模板吸尘罩（4），在上模板吸尘罩（3）的前后壁体之间安装有上滚刷（5），在上滚刷（5）左右两侧的上模板吸尘罩（3）壁体上均固定有上密封挡片（7），在下模板吸尘罩（4）的前后壁体之间安装有下滚刷（6），在下滚刷（6）左右两侧的下模板吸尘罩（4）壁体上均固定有下密封挡片（8）。