[发明专利]模具吸真空清洁装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种半导体行业的模具清洁装置，尤其是一种模具吸真空清洁装置。

背景技术

目前，随着我国半导体行业的日益壮大及影响力的持续增加，需对生产出产品的品质及良率有着更高的要求。由于之前吸真空装置过于单一，导致模具上的异物质无法被吸力去除，导致产品异物质不良持续发生。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种可以提高密封性、增加对模具上异物质的清除能力、改善产品品质的。

按照本发明提供的技术方案，所述模具吸真空清洁装置，包括在直线导轨上滑动安装的滑块，在滑块上固定有吸尘管，吸尘管上并联安装有上模板吸尘罩与下模板吸尘罩，在上模板吸尘罩的前后壁体之间安装有上滚刷，在上滚刷左右两侧的上模板吸尘罩壁体上均固定有上密封挡片，在下模板吸尘罩的前后壁体之间安装有下滚刷，在下滚刷左右两侧的下模板吸尘罩壁体上均固定有下密封挡片。

本发明提高了模具中异物质被去除的几率；

本发明操作简单，方便技术人员的修理；

本发明持久耐用，减少反复购买备件的费用；

本发明中的圆形滚刷的更换方便快捷，减少设备停机时间。

附图说明

图1是本发明的整体结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体附图和实施例对本发明作进一步说明。

如图所示：该模具吸真空清洁装置，包括在直线导轨1上滑动安装的滑块2，在滑块2上固定有吸尘管9，吸尘管9上并联安装有上模板吸尘罩3与下模板吸尘罩4，在上模板吸尘罩3的前后壁体之间安装有上滚刷5，在上滚刷5左右两侧的上模板吸尘罩3壁体上均固定有上密封挡片7，在下模板吸尘罩4的前后壁体之间安装有下滚刷6，在下滚刷6左右两侧的下模板吸尘罩4壁体上均固定有下密封挡片8。

本发明的装置直线导轨移动到上模10和下模11之间，上模10和下模11闭合到指定位置，在真空吸尘管9退出上模10和下模11的过程中，橡胶的上密封挡片7与上模10之间、下密封挡片8与下模11会进成较为密闭的空间，圆形的上滚刷5与下滚刷6会清洁上模10的下表面、下模11的上表面，异物质会被强力的吸力吸走。