[发明专利]光反应性降冰片烯类共聚物、其制备方法以及包含该共聚物的配向膜有效
申请号: | 201110192759.0 | 申请日: | 2011-07-07 |
公开(公告)号: | CN102391423A | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
发明(设计)人: | 柳东雨;全成浩;元永喆;崔大胜 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | C08F232/08 | 分类号: | C08F232/08;C09K19/56;G02F1/1337 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人: | 马慧;钟守期 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: |
本发明涉及一种既能表现优异的液晶配向性,且能与多种有机溶剂或添加剂之间的混合性突出,从而能够适宜在液晶显示装置的配向膜等上使用的特定的光反应性降冰片烯类共聚物及其制备方法以及包含该共聚物的配向膜。所述光反应性降冰片烯类共聚物包括以下化学式1和化学式2的化合物作为单体,所述单体具有至少一个被卤素或卤素取代的C1-C20烷基、氢或甲氧基取代的光反应性基团。 |
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搜索关键词: | 光反应 冰片 共聚物 制备 方法 以及 包含 | ||
【主权项】:
1.一种光反应性降冰片烯类共聚物,将以下化学式1所示化合物及以下化学式2所示化合物作为单体来包含:[化学式1] [化学式2]
在所述化学式1及2中,q及q’是0到4的整数,R1、R2、R3及R4中至少一个是选自以下化学式1a及1b中的基团,R1’、R2’、R3’及R4’中至少一个是以下化学式2a所示的基团,除了由化学式1a、1b及2a表示的基团外,其余的R1到R4及R1’到R4’相同或相异,且分别独立地选自氢;卤素;被取代或未被取代且碳原子数为1~20的线型或支链型烷基;被取代或未被取代且碳原子数为2~20的线型或支链型烯基;被取代或未被取代且碳原子数为2~20的线型或支链型炔基;被取代或未被取代且碳原子数为3~12的环烷基;被取代或未被取代且碳原子数为6~40的芳基;及包含选自氧、氮、磷、硫、硅及硼中的至少一个的极性官能团中,当所述R1到R4及R1’到R4’不是氢;卤素;或极性官能团时,由R1和R2、R1’和R2’、R3和R4及R3’和R4’所构成的组中选择的一个以上组合可相互连接而形成碳原子数为1~10的亚烷基,或者R1或R2与R3及R4中的任一个连接,或者R1’或R2’与R3’及R4’中的任一个连接而形成碳原子数为4到12的饱和或不饱和脂肪环或碳原子数为6~24的芳族环,[化学式1a] [化学式1b]
[化学式2a]
在所述化学式1a、1b及2a中,A为单键、氧、硫或-NH-,B选自单键、被取代或未被取代且碳原子数为1~20的亚烃基、羰基、羧基、酯、被取代或未被取代且碳原子数为6~40的亚芳基和被取代或未被取代且碳原子数为6~40的杂亚芳基中,X为氧或硫;R9选自单键、被取代或未被取代且碳原子数为1~20的亚烃基、被取代或未被取代且碳原子数为2~20的亚烯基、被取代或未被取代且碳原子数为3~12的环亚烃基、被取代或未被取代且碳原子数为6~40的亚芳基、被取代或未被取代且碳原子数为7~15的亚芳烷基及被取代或未被取代且碳原子数为2~20的亚炔基中,Ra为氢或甲氧基,R10、R11、R12、R13及R14中至少一个为卤素或被卤素取代的碳原子数为1~20的烷基,R10到R14中的其余部分和R10’到R13’相同或相异,且分别独立地选自被取代或未被取代且碳原子数为1~20的烷基;被取代或未被取代且碳原子数为1~20的烷氧基;被取代或未被取代且碳原子数为6~30的芳氧基;被取代或未被取代且碳原子数为6~40的芳基;包含第14族、第15族或第16族杂元素且碳原子数为6~40的杂芳基;及被取代或未被取代且碳原子数为6~40的烷氧基芳基中。
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