[发明专利]投射装置的制造方法、投射装置的制造装置及投射装置无效
| 申请号： | 201110177825.7 | 申请日： | 2011-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN102314059A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 冈室琢磨;石桥治 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/14 | 分类号： | G03B21/14;G02B27/18;G03B21/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种投射装置的制造方法、投射装置的制造装置及投射装置。投射装置的制造方法具有：形成调制元件单元的工序，反射型光调制元件和反射型偏振板被固定在规定的位置；和位置调整工序，通过相对于投射光学元件移动调制元件单元的位置，来相对于投射光学元件调整反射型光调制元件的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种投射装置的制造方法，其特征在于，所述投射装置具备：反射型光调制元件，对入射光进行光学调制，并射出所述入射光被调制后的调制光；和反射型偏振板，使从光源射出的所述入射光透过并且使所述调制光朝向投射光学元件反射，该投射装置的制造方法具有：单元形成工序，形成调制元件单元，所述调制元件单元具备所述反射型光调制元件和所述反射型偏振板，且所述反射型光调制元件和所述反射型偏振板被固定在规定的相对位置；和位置调整工序，通过相对于所述投射光学元件移动所述调制元件单元的位置，来相对于所述投射光学元件调整所述反射型光调制元件的位置。
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