[发明专利]测量系统、方法和光刻设备有效

专利信息
申请号: 201110167303.9 申请日: 2011-06-21
公开(公告)号: CN102298269A 公开(公告)日: 2011-12-28
发明(设计)人: H·H·M·考克西;W·H·G·A·考恩;T·A·马塔尔;M·T·J·彼德尔斯;R·A·A·沃库伊耶 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明公开了一种测量系统、方法和光刻设备。所述测量系统配置成得出物体的位置量,所述测量系统包括:至少一个位置量传感器,配置成提供各自的位置量测量信号;位置量计算器,配置成由所述位置量测量信号确定所述物体的位置量,其中所述位置量计算器包括扭转估算器,所述扭转估算器配置成估算所述物体的扭转,所述位置量计算器配置成针对于所述估算的扭转来校正所述物体的已确定的位置量。
搜索关键词: 测量 系统 方法 光刻 设备
【主权项】:
一种测量系统,配置成得出物体的位置量,所述位置量包括位置、速度和加速度中的至少一个,所述测量系统包括:位置量传感器,配置成提供位置量测量信号;位置量计算器,配置成根据所述位置量测量信号确定所述物体的位置量,其中所述位置量计算器包括扭转估算器,所述扭转估算器配置成估算所述物体的扭转,所述位置量计算器配置成根据所估算的扭转来校正所述物体的已确定的位置量。
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