[发明专利]光谱分析仪以及光谱分析方法无效
| 申请号： | 201110157574.6 | 申请日： | 2011-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN102364328A | 公开（公告）日： | 2012-02-29 |
| 发明（设计）人： | 渡正博;尾崎幸洋 | 申请（专利权）人： | 横河电机株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/35 | 分类号： | G01N21/35 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 陈源;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了光谱分析仪和光谱分析方法。该光谱分析仪包括：第一测量部分，配置用于通过以近红外光照射样本来测量近红外区域的光谱；第二测量部分，配置用于通过以红外光照射样本来测量红外区域的光谱；以及分析部分，配置用于利用由第一和第二测量部分所测得的光谱来分析样本特征。分析部分包括：第一计算模块，配置用于通过组合第一测量部分测得的近红外区域的光谱以及第二测量部分测得的红外区域的光谱来获取集成光谱；第二计算模块，配置用于计算预先测得的基准光谱与集成光谱的差异光谱；以及第三计算模块，配置用于通过利用差异光谱执行二维相关操作来计算近红外区域的光谱与红外区域的光谱之间的相关性。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱分析 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种光谱分析仪，包括：第一测量部分，配置用于通过以近红外光照射样本来测量近红外区域的光谱；第二测量部分，配置用于通过以红外光照射样本来测量红外区域的光谱；以及分析部分，配置用于利用由所述第一测量部分和所述第二测量部分所测得的光谱来分析样本特征，其中所述分析部分包括：第一计算模块，配置用于通过组合由所述第一测量部分测得的近红外区域的光谱和由所述第二测量部分测得的红外区域的光谱来获取集成光谱，第二计算模块，配置用于计算预先测得的基准光谱与所述集成光谱的差异光谱，以及第三计算模块，配置用于通过利用由所述第二计算模块计算出的差异光谱执行二维相关操作来计算近红外区域的光谱与红外区域的光谱之间的相关性。
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