[发明专利]化学机械抛光研磨液输送系统及化学机械抛光研磨设备无效
申请号: | 201110131936.4 | 申请日: | 2011-05-20 |
公开(公告)号: | CN102240976A | 公开(公告)日: | 2011-11-16 |
发明(设计)人: | 路新春;潘燕;王同庆;沈攀;何永勇 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02;B24B37/02;H01L21/304 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开一种化学机械抛光研磨液输送系统及化学机械抛光研磨设备,化学机械抛光研磨液输送系统包括:第一至第五容器、磨粒搅拌装置、混合装置、第一至第四输送泵、流量和压力调节装置、研磨液输送泵和溢流阀,第一至第五容器分别用于提供氧化剂、络合剂、缓蚀剂、磨粒和去离子水;流量和压力调节装置与混合装置相连,用于混合装置内的研磨液输送给化学机械研磨台;研磨液输送泵串联在混合装置与流量和压力调节装置之间;溢流阀连接在混合装置与流量和压力调节装置之间且与研磨液输送泵并联。根据本发明的化学机械抛光研磨液输送系统在整个输送过程中,磨粒一直被搅拌,可以有效防止颗粒沉淀、絮凝造成的表面划伤。 | ||
搜索关键词: | 化学 机械抛光 研磨 输送 系统 设备 | ||
【主权项】:
一种化学机械抛光研磨液输送系统,其特征在于,包括:第一至第五容器,所述第一至第五容器分别用于提供氧化剂、络合剂、缓蚀剂、磨粒和去离子水;磨粒搅拌装置,所述磨粒搅拌装置设在所述第四容器内用于搅拌所述第四容器内的磨粒;混合装置,所述第一至第五容器分别与所述混合装置相连且彼此并联,所述混合装置用于将分别从所述第一至第五容器输送到其内的所述氧化剂、络合剂、缓蚀剂、磨粒和去离子水混合成研磨液;第一至第四输送泵,所述第一至第四输送泵一一对应地设在所述第一至第四容器与所述混合容器之间;流量和压力调节装置,所述流量和压力调节装置与所述混合装置相连,用于将所述混合装置内的研磨液输送给化学机械研磨台;研磨液输送泵,所述研磨液输送泵串联在所述混合装置与所述流量和压力调节装置之间;和溢流阀,所述溢流阀连接在所述混合装置与所述流量和压力调节装置之间且与所述研磨液输送泵并联。
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