[发明专利]掩模对准自适应扫描方法有效
| 申请号： | 201110086178.9 | 申请日： | 2011-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN102736425A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 胡明辉;李运锋 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种掩模对准自适应扫描方法，包括步骤1.确定掩模标记垂向与水平向空间像的最大有效值和最小有效值；2.进行掩模对准扫描，根据垂向与水平向空间像的最大有效值和最小有效值以及空间像内采样点数计算垂向、水平向采样点数；3.掩模对准扫描结束后，根据传感器获得的数据计算实测空间像高与像宽；4.当实测空间像高与像宽在阈值范围内，则计算垂向与水平向指数遗忘因子，根据所述垂向与水平向指数遗忘因子更新掩模标记垂向空间像与水平向空间像的最大有效值和最小有效值后，返回步骤2，当实测空间像高与实测空间像宽不在阈值范围内，则直接返回步骤2。本方法提高生产效率的同时保证了对准精度，并且同时对垂向和水平向采样点数进行优化。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 自适应 扫描 方法 | ||
【主权项】：
一种掩模对准自适应扫描方法，其特征在于，包括：步骤1，确定掩模标记垂向空间像的最大有效值eff_max_z和最小有效值eff_min_z以及水平向空间像的最大有效值eff_max_x和最小有效值eff_min_x；步骤2，进行掩模对准扫描，根据掩模标记垂向空间像、水平向空间像的最大有效值和最小有效值以及掩模标记空间像内采样点数计算垂向采样点数Nr_of_vert_samples、水平向采样点数Nr_of_hor_samples；步骤3，掩模对准扫描结束后，根据传感器获得的数据计算实测空间像高ai_height与实测空间像宽ai_width；步骤4，当实测空间像高ai_height与实测空间像宽ai_width在阈值范围内，则计算垂向指数遗忘因子ηz和水平向指数遗忘因子ηx，根据所述垂向指数遗忘因子ηz和水平向指数遗忘因子ηx更新掩模标记垂向空间像的最大有效值eff_max_z和最小有效值eff_min_z以及水平向空间像的最大有效值eff_max_x和最小有效值eff_min_x后，返回步骤2，当实测空间像高与实测空间像宽不在阈值范围内，则直接返回步骤2。
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