[发明专利]基于双面凹孔衬底及组分渐变缓冲层的倒装LED芯片无效

专利信息
申请号: 201110078703.2 申请日: 2011-03-30
公开(公告)号: CN102157654A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 杜晓晴;钟广明;陈伟民;刘显明 申请(专利权)人: 重庆大学
主分类号: H01L33/20 分类号: H01L33/20;H01L33/12
代理公司: 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 代理人: 张先芸
地址: 400044 *** 国省代码: 重庆;85
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于双面凹孔衬底及组分渐变缓冲层的倒装LED芯片,该芯片自上而下由上下表面均匀分布102~104个凹孔的蓝宝石衬底、由k个非掺杂AlxGa1-xN外延材料构成的单元层组成的AlxGa1-xN组分渐变缓冲层、n型GaN外延层、InGaN/GaN多量子阱、p型GaN层、透明ITO导电薄膜、倒装焊电极及硅衬底组成。本发明采用凹孔结构提高LED出射光的出射几率,增加衬底的散热表面积和生长应力作用范围,以提高GaN外延质量及其辐射复合发光效率;采用Al组分含量逐渐降低的AlxGa1-xN来制作n型GaN外延层的缓冲层,提高LED的出光效率和内量子效率,获得较高的光输出功率。
搜索关键词: 基于 双面 衬底 组分 渐变 缓冲 倒装 led 芯片
【主权项】:
一种基于双面凹孔衬底及组分渐变缓冲层的倒装LED芯片,其特征在于:该LED芯片自上而下由蓝宝石衬底(1)、AlxGa1‑x N组分渐变缓冲层(2)、n型GaN外延层(3)、InGaN/GaN多量子阱(4)、p型GaN层(5)、透明ITO导电薄膜(6)、倒装焊电极(7)以及导电性良好的硅衬底(8)组成;所述蓝宝石衬底(1)的上表面均布设有m个凹孔Ⅰ(9),102≤m≤104,下表面均布设有n个凹孔Ⅱ(10),102≤n≤104;所述AlxGa1‑xN组分渐变缓冲层(2)由k个非掺杂AlxGa1‑xN外延材料构成的单元层组成,3≤k≤10,k个单元层由上向下各层中Al组分满足:1≥x1>x2>……xn≥0。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆大学,未经重庆大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110078703.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top