[发明专利]矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法无效
申请号: | 201110075852.3 | 申请日: | 2011-03-29 |
公开(公告)号: | CN102141645A | 公开(公告)日: | 2011-08-03 |
发明(设计)人: | 姚德武;马孜;肖琦;王平秋 | 申请(专利权)人: | 西南技术物理研究所 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610041 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提出的一种矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法,利用本方法,可显著地提高带通滤光片有效面积和截止度,有效控制误差的负面影响。本发明通过下述技术方案予以实现:(1)确定理论膜系,以多腔滤光片的典型膜系结构为基础,选取Ta2O5作为高折射率材料,SiO2为低折射率材料,以λ为滤光片的工作波长,分别定义Ta2O5和SiO2在λ/4的单位光学厚度为H和L,在计算机上,使用膜系设计软件TFC Calc,根据超窄带带通滤光片要求的性能参数确定滤光片的膜系结构;(2)使用全自动镀膜机,根据上述获得的理论膜系结构,制作出该镀膜机自动控制用的模板控制文件;(3)在镀膜机内装入选定的镀膜材料,采用偏心监控的控制方式,镀膜机按选定的模板控制文件自动完成滤光片的制作。 | ||
搜索关键词: | 矩形 截止 窄带 滤光 制作方法 | ||
【主权项】:
一种矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)确定理论膜系,以多腔滤光片的典型膜系结构为基础,选取Ta2O5作为高折射率材料,SiO2为低折射率材料,以λ为滤光片的工作波长,分别定义Ta2O5和SiO2在λ/4的单位光学厚度为H和L,在计算机上,使用膜系设计软件TFCCalc,根据超窄带带通滤光片要求的性能参数确定滤光片的膜系结构;(2)使用具有石英晶体振荡膜厚控制仪、高精度光学膜厚控制仪和射频离子源辅助镀膜的全自动镀膜机,并根据上述获得的理论膜系结构,制作出该镀膜机自动控制用的模板控制文件;(3)在镀膜机内装入选定的镀膜材料,采用偏心监控的控制方式,镀膜机按选定的模板控制文件自动完成滤光片的制作。
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