[发明专利]矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法无效
申请号: | 201110075852.3 | 申请日: | 2011-03-29 |
公开(公告)号: | CN102141645A | 公开(公告)日: | 2011-08-03 |
发明(设计)人: | 姚德武;马孜;肖琦;王平秋 | 申请(专利权)人: | 西南技术物理研究所 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610041 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 矩形 截止 窄带 滤光 制作方法 | ||
1.一种矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)确定理论膜系,以多腔滤光片的典型膜系结构为基础,选取Ta2O5作为高折射率材料,SiO2为低折射率材料,以λ为滤光片的工作波长,分别定义Ta2O5和SiO2在λ/4的单位光学厚度为H和L,在计算机上,使用膜系设计软件TFCCalc,根据超窄带带通滤光片要求的性能参数确定滤光片的膜系结构;
(2)使用具有石英晶体振荡膜厚控制仪、高精度光学膜厚控制仪和射频离子源辅助镀膜的全自动镀膜机,并根据上述获得的理论膜系结构,制作出该镀膜机自动控制用的模板控制文件;
(3)在镀膜机内装入选定的镀膜材料,采用偏心监控的控制方式,镀膜机按选定的模板控制文件自动完成滤光片的制作。
2.如权利要求1所述的矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法,其特征在于,所述滤光片的膜系结构为:
基板/(HLHLHLHLH4LHLHLHLHLHL)(HLHLHLHLH4LHLHLHLHLHL),(HLHLHLHLH4LHLHLHLHL0.6H0.8L)/空气。
3.如权利要求1所述的矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法,其特征在于,所述膜系结构为:基板/(HL)^a H bL(HL)^(a+1)(HL)^c HdL(HL)^(c+1)......(HL)^m H nL(HL)^(m+1)/空气。
4.如权利要求1所述的矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法,其特征在于,滤光片的性能参数包括,理论半宽,分布值为5~5.4nm,通带平均透过率大于或等于95%的区域,其宽度不小于3nm。
5.如权利要求1所述的矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法,其特征在于,所述的偏心监控方式是在选定离工件载盘中心一定半径的圆周上一点为监控点,通过监控基板上该点的透射光强度来控制镀膜进程实现的。
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