[发明专利]光刻装置和采用数据过滤的器件制造方法

摘要

光刻装置和采用数据过滤的器件制造方法。一种在衬底上形成图案的装置和方法。其包括投影系统，图案形成装置，低通滤光器，和数据操作处理装置。投影系统将辐射光束以子辐射光束阵列投射到衬底上。图案形成装置调制子辐射光束以在衬底上基本上产生被请求的剂量图案。低通滤光器对从被请求的剂量图案导出的图案数据进行操作，以便形成主要只包括低于选择的门限值频率的空间频率部分的频率限制的目标剂量图案。数据操作处理装置产生包括要由图案形成装置产生的点曝光强度的、基于从点曝光强度至频率限制的目标剂量图案的直接代数最小二乘方拟合的控制信号。在各种实施例中，可以使用图案锐化，图像对数斜率控制，和/或CD偏置的滤光器。

主权项

一种光刻装置，包括：将辐射光束以次辐射光束阵列投射到衬底上的投影系统；可单独控制的元件的阵列，其调制次辐射光束以便在衬底上基本上形成所要求的剂量图案，所要求的剂量图案由点曝光阵列经时间建立，各点曝光由其中一个次辐射光束在给定时刻产生；光栅器装置，其将定义所要求的剂量图案的数据转换成代表在图案内对应的点序列处的所要求的剂量的数据序列；数据操作装置，其接受所述数据序列并由此产生控制信号，该控制信号用于控制可单独控制的元件的阵列；聚焦确定单元，其测量至少一部分衬底相对于最佳聚焦平面的位置，其中数据操作装置包括基于至少一部分衬底相对于最佳聚焦平面的测量偏差改变控制信号的聚焦补偿单元。