[发明专利]光刻装置和采用数据过滤的器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻装置，包括：

将辐射光束以次辐射光束阵列投射到衬底上的投影系统；

可单独控制的元件的阵列，其调制次辐射光束以便在衬底上基本上形成所要求的剂量图案，所要求的剂量图案由点曝光阵列经时间建立，各点曝光由其中一个次辐射光束在给定时刻产生；

光栅器装置，其将定义所要求的剂量图案的数据转换成代表在图案内对应的点序列处的所要求的剂量的数据序列；

数据操作装置，其接受所述数据序列并由此产生控制信号，该控制信号用于控制可单独控制的元件的阵列；

聚焦确定单元，其测量至少一部分衬底相对于最佳聚焦平面的位置，其中数据操作装置包括基于至少一部分衬底相对于最佳聚焦平面的测量偏差改变控制信号的聚焦补偿单元。

2.按照权利要求1的光刻装置，其特征在于，聚焦确定单元包括：刚性地连接在投影系统上的至少一个超声波传感接收器，其在一个或多个点上通过测量被反射超声波的传播时间测量衬底表面相对于投影系统的位置。

3.一种光刻装置，包括：调制辐射光束的图案形成装置；

将调制的辐射光束投射到衬底上的投影系统；和

CD偏置滤光器，其对从要输送给图案形成装置的所要求的剂量图案导出的图案数据进行操作，其控制由图案形成装置产生的辐射剂量图案的临界尺寸特性。

4.按照权利要求3的光刻装置，其特征在于，CD偏置滤光器调节至少一部分剂量图案的放大率而不调节该部分相对于该剂量图案的其它部分的位置。

5.按照权利要求3的光刻装置，其特征在于，CD偏置滤光器独立地调节剂量图案的多个区域的临界尺寸。

6.按照权利要求3的光刻装置，其特征在于，CD偏置滤光器独立于平行于该剂量图案平面中的非平行的第二轴的临界尺寸，调节平行于剂量图案的平面中的第一轴的临界尺寸。

7.一种光刻装置，包括：

调节辐射光束的照明系统；

将辐射光束以次辐射光束阵列投射到衬底上的投影系统；

图案形成装置，其调制次辐射光束以便在衬底上基本上产生所要求的剂量图案；剂量图案由点曝光阵列建立，各点曝光由其中一个次辐射光束在某一时刻产生，其中给定的次辐射光束的辐射强度根据图案形成装置的对应部分的激励状态而控制；和

数据操作装置，其将包括从所要求的剂量图案导出的点曝光辐射剂量的信号变换成代表图案形成装置的激励状态的控制信号，以便产生所要求的剂量图案，其中该变换修正由投影系统的部件、照明系统的部件、照明系统的辐射源和图案形成装置部件中至少一方引起的强度变化。

8.按照权利要求7的光刻装置，其特征在于，数据操作装置包括：

储存查用表的存储器装置，数据操作装置可访问该查用表以便从图案形成装置的某一部分的激励状态转换到对应的控制电压来产生该部分的激励状态，其中该变换是通过改变查用表中的至少一个次组的值而执行的。

9.按照权利要求7的光刻装置，其特征在于，数据操作装置包括：

乘法器，其将由图案形成装置的某一部分产生的点曝光辐射剂量转换成该部分的激励状态，其中该变换是通过改变乘法器的增益特性而执行的。

10.一种器件制造方法，包括：

将辐射光束以次辐射光束阵列投射到衬底上；

调制次辐射光束以便在衬底上基本上形成所要求的剂量图案，所要求的剂量图案由点曝光阵列经时间建立，各点曝光由其中一个次辐射光束在给定的时刻产生；

将限定所要求的剂量图案的数据转换成代表在图案内的对应点序列上的所要求的剂量的数据序列；

从用于控制所述调制步骤的数据序列产生控制信号；

测量至少一部分衬底相对于最佳聚焦平面的位置；和

基于至少一部分衬底相对于最佳聚焦平面偏差的测量，修改控制信号。

11.一种器件制造方法，包括：

调制辐射光束；

将调制的辐射光束投射到衬底上；

CD偏置过滤从所要求的剂量图案导出的图案数据，其用于执行调制，以便控制由调制产生的辐射剂量图案的临界尺寸特性。

12.一种器件制造方法，包括：

调整辐射光束；

将辐射光束以次辐射光束阵列投射到衬底上；

调制次辐射光束以便在衬底上基本上产生所要求的剂量图案的图案形成装置，该剂量图案由点曝光阵列建立，各点曝光由其中一个次辐射光束在某一时刻产生；

根据执行调制步骤的图案形成装置的对应部分的激励状态控制给定的次辐射光束的辐射强度；

将包含从所要求的剂量图案导出的点曝光辐射剂量的信号变换成代表图案形成装置的激励状态的控制信号，以便基本上产生所要求的剂量图案；和

修改该变换步骤，以便修正由投影系统的部件、照明系统的部件、照明系统的辐射源和图案形成装置部件中至少一方引起的强度变化。