[发明专利]滤光器及其制造方法、分析设备以及光设备无效
| 申请号： | 201110049729.4 | 申请日： | 2011-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN102193183A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 山崎成二 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00;G01J3/46 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;赵曦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及滤光器及其制造方法、分析设备以及光设备。本发明的滤光器具有对置的第1、第2基板、在第1、第2基板上设置的第1、第2反射膜、在第1、第2基板上设置的第1、第2接合膜、以及在第1、第2反射膜的表面形成的第1、第2阻隔膜，第1阻隔膜的臭氧或紫外线的透射率比第1反射膜低，第2阻隔膜的臭氧或紫外线的透射率比第2反射膜低，在制造或实际使用滤光器时，保护反射膜免受臭氧或紫外线的影响，不会使滤光器特性变差。 | ||
| 搜索关键词： | 滤光 及其 制造 方法 分析 设备 以及 | ||
【主权项】：
一种滤光器的制造方法，其特征在于，具有如下工序：在第1基板上形成第1接合膜的工序，所述第1基板形成有反射光并能透射特定波长的光的第1反射膜，在第2基板上形成第2接合膜的工序，所述第2基板形成有反射光并能透射特定波长的光的第2反射膜，形成第1阻隔膜的工序，所述第1阻隔膜覆盖所述第1基板的所述第1反射膜的表面而保护所述第1反射膜，形成第2阻隔膜的工序，所述第2阻隔膜覆盖所述第2基板的所述第2反射膜的表面而保护所述第2反射膜，利用臭氧或紫外线对所述第1、第2接合膜分别赋予活化能的工序，以及接合已活化的所述第1、第2接合膜而将所述第1、第2基板黏在一起的工序，所述第1阻隔膜在对所述第1接合膜赋予活化能之前形成，所述第2阻隔膜在对所述第2接合膜赋予活化能之前形成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社，未经精工爱普生株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110049729.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
