[发明专利]RFID未层压卡、RFID标签及它们的制造方法无效

专利信息
申请号: 201110048619.6 申请日: 2011-02-25
公开(公告)号: CN102346868A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: 皆川圆;谏田尚哉;坂间功;佐川茂;柴田大辅 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: G06K19/077 分类号: G06K19/077;H01Q1/22;H01Q1/38
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供RFID未层压卡、RFID标签及它们的制造方法,能够消除在正面或背面进行印刷的RFID的由于正面或背面的凹凸而产生的无法印刷区域。使RFID标签构成为包括:基膜;形成在该基膜上的天线图案;与该天线图案进行焊接的IC芯片;形成在天线图案上的绝缘膜层;底部填充胶,其填充在IC芯片与天线及基膜之间,并且填充在IC芯片与绝缘膜层之间的间隙;形成层,其与绝缘膜层接合,在与IC芯片的上表面相当的部分具有窗部,该形成层的表面的高度与IC芯片的表面的高度大致相等;缓冲层,其填充在该形成层与基膜及IC芯片之间的间隙;和覆盖形成层和IC芯片的表面的印刷层。
搜索关键词: rfid 层压 标签 它们 制造 方法
【主权项】:
一种RFID未层压卡,其特征在于,包括:基膜;形成在该基膜上的天线图案;形成在所述天线图案上、具有孔部的绝缘膜层;在所述绝缘层膜的孔部内与该天线图案连接的IC芯片;和填充在所述IC芯片与所述天线及所述基膜之间的底部填充胶,所述IC芯片的上表面的高度位于比所述绝缘膜层的上表面高的位置,所述底部填充胶形成在所述IC芯片与所述绝缘膜的孔部壁面之间。
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