[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201110029343.7 | 申请日： | 2011-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN102141737A | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | D·J·M·迪莱克斯;E·H·E·C·埃尤梅伦;C·J·G·范登顿根;M·A·C·斯奇皮尔斯;S·舒勒波夫;P·木尔德;D·毕塞姆斯;M·巴拉古拿 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。在浸没光刻设备的液体限制结构中，细长的连续的开口形成用于供给液体至投影系统下面的空间的出口。细长的狭缝形成具有高剪切和压力梯度的区域，其偏转气泡离开像场。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：衬底台，布置成保持衬底和沿扫描方向扫描衬底；投影系统，布置成将图像投影到衬底上，同时通过衬底台扫描衬底；和液体限制系统，布置成将液体限制到投影系统和衬底之间的空间；其中所述投影系统具有光轴并且布置成将图像投影到像场，所述像场在垂直于光轴和扫描方向的方向上具有小于在所述方向上所述空间的最大尺寸的最大尺寸；和所述液体限制系统具有在所述空间边界上的液体限制部件，所述液体限制部件限定布置用以引导液体朝向所述衬底的连续的、细长的液体供给开口，所述细长的液体供给开口在所述方向上具有大于所述像场的最大尺寸且小于所述空间的最大尺寸的尺寸。
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