[发明专利]光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

衬底台，布置成保持衬底和沿扫描方向扫描衬底；

投影系统，布置成将图像投影到衬底上，同时通过衬底台扫描衬底；和

液体限制系统，布置成将液体限制到投影系统和衬底之间的空间；其中

所述投影系统具有光轴并且布置成将图像投影到像场，所述像场在垂直于光轴和扫描方向的方向上具有小于在所述方向上所述空间的最大尺寸的最大尺寸；和

所述液体限制系统具有在所述空间边界上的液体限制部件，所述液体限制部件限定布置用以引导液体朝向所述衬底的连续的、细长的液体供给开口，所述细长的液体供给开口在所述方向上具有大于所述像场的最大尺寸且小于所述空间的最大尺寸的尺寸。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其中，所述液体限制系统还限定多个其他液体供给开口，所述其他液体供给开口沿至少一条线布置并且具有比细长的液体供给开口的最大尺寸小的最大尺寸。

3.如权利要求1或2所述的光刻设备，其中，相对于所述细长的液体供给开口，所述液体限制部件还在所述空间的另一侧限定第二细长液体供给开口。

4.如权利要求1或2或3所述的光刻设备，其中，所述细长的液体供给开口是V形的。

5.如权利要求1或2或3所述的光刻设备，其中，所述细长的液体供给开口是弯曲的。

6.如权利要求1-5中任一项所述的光刻设备，其中，所述液体限制系统还包括液体供给装置，所述液体供给装置布置成供给液体至所述空间并且供给速率等于或大于大约1l/min、等于或大于大约1.25l/min、等于或大于大约1.5l/min、或者等于或大于大约2l/min。

7.如权利要求1-6中任一项所述的光刻设备，其中，所述细长的液体供给开口具有小于或等于大约100μm的宽度、小于或等于大约70μm的宽度、小于或等于大约50μm的宽度、小于或等于大约30μm的宽度、或者小于或等于大约20μm的宽度。

8.如权利要求1-7中任一项所述的光刻设备，其中，所述液体限制部件具有正对表面，所述正对表面限定细长的液体供给开口。

9.如权利要求8所述的光刻设备，其中，在所述设备操作期间，正对表面定位离开所述衬底的距离小于或等于大约200μm、小于或等于大约180μm、或者小于或等于大约150μm。

10.一种用于将图像通过由液体限制系统限制在衬底的表面上的液体主体投影到衬底上、同时沿扫描方向扫描衬底的浸没光刻设备，其中：

液体限制系统具有细长的液体供给开口，所述液体供给开口布置成在液体主体中形成具有相对高的剪切和压力梯度的区域，以便将液体中的气体气泡转移离开所述图像。

11.如权利要求10所述的光刻设备，其中，所述液体限制系统包括：液体限制部件，所述液体限制部件具有在使用时面对衬底的表面；和定位系统，配置成将液体限制部件定位成使得所述表面离开所述衬底一预定距离，其中在所述表面中形成所述液体供给开口，并且所述预定距离在大约120μm到大约180μm范围内。

12.一种使用光刻设备的器件制造方法，所述方法包括步骤：

将液体主体限制到与衬底的表面接触的空间；

通过所述液体主体将图像投影到所述衬底上，同时沿扫描方向移动所述衬底；

在扫描方向上图像前面的液体主体内形成具有相对高的压力的细长区域，由此具有相对高的压力的区域有效地将液体主体内的气体气泡转移离开所述图像。

13.如权利要求12所述的方法，其中，所述高压区域有效地引导尺寸大于或等于大约30μm、尺寸大于或等于大约20μm、尺寸大于或等于大约15μm、或者尺寸大于或等于大约12μm的气泡。

14.如权利要求12或13所述的方法，其中，所述衬底到所述液体的接触角大于或等于大约90°、大于或等于大约100°、大于或等于大约110°，或其中衬底到所述液体的接触角滞后小于或等于大约20°、小于或等于大约15°、或者小于或等于大约10°。

15.如权利要求12-14中任一项所述的方法，其中，所述在扫描方向上图像前面的液体主体内形成具有相对高的压力的细长区域的步骤包括通过宽度在大约20μm到大约30μm范围内的细长的开口供给液体，和/或其中所述形成包括以大约1.25l/m到大约2.0l/m的速率供给液体。