[发明专利]光电二极管阵列、辐射检测器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110009950.7 申请日: 2011-01-18
公开(公告)号: CN102183777A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 迈克尔.米斯;斯蒂芬.沃思 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: G01T1/20 分类号: G01T1/20;H01L27/146
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 谢强
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种辐射检测器(7)的光电二极管阵列(1),具有多个结构化设置的光电二极管(2),为了将光转换为电信号,这些光电二极管(2)分别具有活跃的像素区域(6),其中,在至少一部分光电二极管(2)的活跃的像素区域(6)上在该光电二极管阵列(1)的为安置闪烁体阵列(3)而设置的面上设有透明氧化物层(5),该氧化物层(5)具有与该光电二极管(2)相应的折射率。相对于公知的光电二极管阵列氧化物层(5)替代粘合剂。在氧化物层(5)和光电二极管阵列(1)之间的界面上通过均衡折射率使到达的光更少折射或反射。由此使相邻像素(9)之间的光学串扰降低。此外,通过氧化物层(5)光学地可见光电二极管(2)的活跃的像素区域(6)。
搜索关键词: 光电二极管 阵列 辐射 检测器 及其 制造 方法
【主权项】:
一种用于辐射检测器(7)的光电二极管阵列(1),具有多个结构化设置的光电二极管(2),为了将光转换为电信号,这些光电二极管(2)分别具有活跃的像素区域(6),其中,在至少一部分光电二极管(2)的活跃的像素区域(6)上在该光电二极管阵列(1)的为安置闪烁体阵列(3)而设置的面上设有透明氧化物层(5),该氧化物层(5)具有与该光电二极管(2)相应的折射率。
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