[发明专利]粒子射线照射系统及粒子射线照射系统的控制方法有效

专利信息
申请号: 201080066259.6 申请日: 2010-05-27
公开(公告)号: CN102844820A 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 原田久 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: G21K1/02 分类号: G21K1/02;A61N5/10;G21K1/093
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 李玲
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于在粒子射线照射系统中,提供更高精度的剂量分布。照射控制部(13)包括设定带电粒子束的能量的能量设定控制器(14)、控制射束扫描器(41)的射束扫描控制器(16)、及控制射束直径变更器(40、60)的射束直径控制器(15),照射控制部(13)利用射束直径控制器(15)将带电粒子束的射束直径设定为第一射束直径,利用射束扫描控制器(16)使带电粒子束以阶跃状进行扫描,以对照射目标的规定区域照射带电粒子束,之后,利用射束直径控制器(15)将带电粒子束的射束直径设定为与第一射束直径不同的第二射束直径,利用射束扫描控制器(16)使带电粒子束以阶跃状进行扫描,以控制成对与照射目标的所述规定区域的至少一部分重叠的区域照射带电粒子束。
搜索关键词: 粒子 射线 照射 系统 控制 方法
【主权项】:
一种粒子射线照射系统,该粒子射线照射系统具有粒子射线产生部、将由该粒子射线产生部产生的带电粒子束照射于照射目标的粒子射线照射部、及对照射的带电粒子束进行控制的照射控制部,其特征在于,所述粒子射线照射部包括使所述带电粒子束沿与所述带电粒子束的照射方向正交的横向二维进行扫描的射束扫描器、和变更所述带电粒子束的射束直径的射束直径变更器,所述照射控制部包括设定所述带电粒子束的能量的能量设定控制器、控制所述射束扫描器的射束扫描控制器、及控制所述射束直径变更器的射束直径控制器,所述照射控制部利用所述射束直径控制器将所述带电粒子束的射束直径设定为第一射束直径,利用所述射束扫描控制器使所述带电粒子束以阶跃状进行扫描,以对所述照射目标的规定区域照射所述带电粒子束,之后,利用所述射束直径控制器将所述带电粒子束的射束直径设定为与所述第一射束直径不同的第二射束直径,利用所述射束扫描控制器使所述带电粒子束以阶跃状进行扫描,以控制成对与所述照射目标的所述规定区域的至少一部分重叠的区域照射所述带电粒子束。
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