[发明专利]粒子射线照射系统及粒子射线照射系统的控制方法

权利要求书

1.一种粒子射线照射系统，该粒子射线照射系统具有粒子射线产生部、将由该粒子射线产生部产生的带电粒子束照射于照射目标的粒子射线照射部、及对照射的带电粒子束进行控制的照射控制部，其特征在于，

所述粒子射线照射部包括使所述带电粒子束沿与所述带电粒子束的照射方向正交的横向二维进行扫描的射束扫描器、和变更所述带电粒子束的射束直径的射束直径变更器，

所述照射控制部包括设定所述带电粒子束的能量的能量设定控制器、控制所述射束扫描器的射束扫描控制器、及控制所述射束直径变更器的射束直径控制器，

所述照射控制部利用所述射束直径控制器将所述带电粒子束的射束直径设定为第一射束直径，利用所述射束扫描控制器使所述带电粒子束以阶跃状进行扫描，以对所述照射目标的规定区域照射所述带电粒子束，

之后，利用所述射束直径控制器将所述带电粒子束的射束直径设定为与所述第一射束直径不同的第二射束直径，利用所述射束扫描控制器使所述带电粒子束以阶跃状进行扫描，以控制成对与所述照射目标的所述规定区域的至少一部分重叠的区域照射所述带电粒子束。

2.如权利要求1所述的粒子射线照射系统，其特征在于，

第一射束直径和第二射束直径中较小的射束直径的照射区域比第一射束直径和第二射束直径中较大的射束直径的照射区域要窄。

3.如权利要求2所述的粒子射线照射系统，其特征在于，

包括检测出照射目标的位移的位移检测器，照射控制部根据所述位移检测器的输出信号，对较小的射束直径的照射进行控制。

4.如权利要求3所述的粒子射线照射系统，其特征在于，

照射控制部根据位移检测器的输出信号，对较大的射束直径的照射进行控制，使得与进行较小的射束直径的照射时相比，在进行较大的射束直径的照射时，要放宽照射允许条件来进行照射。

5.如权利要求2所述的粒子射线照射系统，其特征在于，

照射控制部进行控制，使得在同一照射区域进行多次较小的射束直径的照射。

6.一种粒子射线照射系统的控制方法，该粒子射线照射系统的控制方法将由粒子射线产生部产生的带电粒子束照射于照射目标，其特征在于，

将所述带电粒子束的射束直径设定为第一射束直径，使所述带电粒子束沿与所述带电粒子束的照射方向正交的横向以阶跃状进行扫描，以对所述照射目标的规定区域照射所述带电粒子束，

之后，将所述带电粒子束的射束直径设定为与所述第一射束直径不同的第二射束直径，使所述带电粒子束沿与所述带电粒子束的照射方向正交的横向以阶跃状进行扫描，以控制成对与所述照射目标的所述规定区域的至少一部分重叠的区域照射所述带电粒子束。

7.如权利要求6所述的粒子射线照射系统的控制方法，其特征在于，

第一射束直径和第二射束直径中较小的射束直径的照射区域比第一射束直径和第二射束直径中较大的射束直径的照射区域要窄。

8.如权利要求7所述的粒子射线照射系统的控制方法，其特征在于，

控制成根据照射目标的位移来进行较小的射束直径的照射。

9.如权利要求7所述的粒子射线照射系统的控制方法，其特征在于，

控制成在同一照射区域进行多次较小的射束直径的照射。