[发明专利]PVD方法和设备无效
| 申请号： | 201080062142.0 | 申请日： | 2010-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN102712992A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | S·维雷克;M·吉莱克;O·则杜拉克 | 申请（专利权）人： | SHM公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 黄威;王智 |
| 地址： | 捷克顺*** | 国省代码： | 捷克;CZ |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及使用PVD方法沉积耐磨层的方法，其中从至少两个工作沉积源执行该沉积，由此，至少一个所述源是在不平衡磁控管（1）体系中工作的圆柱形旋转阴极，并且由此，至少一个所述源是在低压电弧放电体系中工作的阴极（7a、7b、7c）。此外，本发明涉及用于执行所述方法的设备，该设备由真空沉积腔组成，其中存在至少两个沉积源，具有它们相关的处理气体的气体输入和它们的屏蔽物，并且其中至少一个基底放置在旋转支撑上，并且其中最基本的是，至少一个所述源是在不平衡磁控管体系中工作的圆柱形旋转阴极，并且由此，至少一个所述源是在低压电弧放电体系中工作的阴极（7a、7b、7c）。 | ||
| 搜索关键词： | pvd 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种沉积耐磨层的方法，使用PVD方法，其特征在于，从至少两个工作沉积源执行沉积，由此，其中至少一个所述源是在不平衡磁控管（1）体系中工作的圆柱形旋转阴极，并且由此，至少一个所述源是在低压电弧放电体系中工作的阴极（7a、7b、7c）。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SHM公司，未经SHM公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080062142.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
