[发明专利]用于特征化光学系统的偏振特性的布置及方法有效

专利信息
申请号: 201080061827.3 申请日: 2010-12-02
公开(公告)号: CN102713761A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: U.海姆佩尔曼;M.门格尔;P.休伯 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B5/30
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种用于特征化光学系统(尤其是微光刻投射曝光设备的光学系统)的偏振特性的布置及方法,该布置包含:至少一个偏振态产生器(130、230、330),其设定入射于光学系统上的辐射的限定的偏振状态;以及偏振态检测器(140、240、340),其适配于测量从该光学系统发出的辐射的出射偏振状态;其中该光学系统被设计用于小于15nm的工作波长;并且其中该偏振态产生器和/或该偏振态检测器被设计成其对入射光束的偏振光学作用在所述光束的至少10°的角谱上基本固定。
搜索关键词: 用于 特征 光学系统 偏振 特性 布置 方法
【主权项】:
一种用于特征化光学系统、尤其是微光刻投射曝光设备的光学系统的偏振特性的布置,包含:至少一个偏振态产生器(130、230、330),其设定入射于所述光学系统上的辐射的限定的偏振状态;以及偏振态检测器(140、240、340),其适配于测量从所述光学系统发出的辐射的出射偏振态;其中所述光学系统被设计用于小于15nm的工作波长;并且其中所述偏振态产生器(130、230、330)和/或所述偏振态检测器(140、240、340)被设计成其对入射光束的偏振光学作用在所述光束的至少10°的角谱上基本固定。
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