[发明专利]包括液滴加速器的EUV辐射源以及光刻设备有效
| 申请号： | 201080059731.3 | 申请日： | 2010-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN102696283A | 公开（公告）日： | 2012-09-26 |
| 发明（设计）人： | W·麦斯特姆;E·鲁普斯特拉;G·斯温克尔斯;E·布耳曼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种EUV辐射源，包括：燃料源，配置用于将燃料供给至等离子体形成位置。所述燃料源包括：喷嘴，配置用于喷射燃料液滴；以及液滴加速器，配置用于加速燃料液滴。EUV辐射源包括激光辐射源，配置用于在等离子体形成位置处照射通过所述燃料源供给的燃料。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 加速器 euv 辐射源 以及 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种EUV辐射源，包括：燃料源，配置用于将燃料供给至等离子体形成位置，所述燃料源包括：喷嘴，配置用于喷射燃料液滴；以及液滴加速器，配置用于加速燃料液滴；以及激光辐射源，配置用于在等离子体形成位置处照射通过所述燃料源供给的燃料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080059731.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种胍基化壳聚糖的制法
- 下一篇：透射显示装置用的前面板以及透射显示装置
