[发明专利]配位基团修饰的石墨烯的制备方法和应用

摘要

本发明是和配位基团修饰的氧化石墨烯，其具有以下的分子式G(A-B)x；其中，G代表氧化石墨烯，A是具有连接功能的基团：-(CH2)m-、-NH-、-S-、-O-Si(-CH2)m(-OR1)2-、-C(=O)-、-C(=O)-O-、-C(=O)-N-、-P(=O)2-O-、这里m值是1-12，R1是H和C1-C12烷基基团；B是配位基团，每个氧化石墨烯单元对配位基团的比率为1∶0.00001到1∶0.5.这种配位基团修饰的氧化石墨烯及还原氧化石墨烯具有广泛的用途。

主权项

一种具有以下结构的配位基团修饰的石墨烯物质：其分子式可表述为G(A‑B)x。其中，G是氧化石墨烯；A是具有以下结构的连接基团：‑(CH2)m‑、‑NH‑、‑S‑、‑O‑Si(‑CH2)m(‑OR1)2‑、‑C(=O)‑、‑C(=O)‑O‑、‑C(=O)‑O(CH2)m‑、‑C(=O)‑NH‑、‑C(=O)‑NH‑(CH2)m‑、‑P(=O)2‑O‑；其中，m为1‑12，R1为H,或C1‑C12烷基。B是具有配位功能的配位基团，其中，其中，基本氧化石墨烯单位对X的比率为：1:0.00001到1:0.5。