[发明专利]在低极性聚合物基质中具有高分散性的纳米级石墨烯薄片的制备方法和相关聚合组合物有效
| 申请号： | 201080056298.8 | 申请日： | 2010-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN102781830A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | R·菲利萨里;O·瓦伦蒂诺;A·卡萨里尼 | 申请（专利权）人： | 维尔萨利斯股份公司 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04;C08K3/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 汪宇伟 |
| 地址： | 意大*** | 国省代码： | 意大利;IT |
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| 摘要： | 一种制造纳米级石墨烯薄片的方法，包括：a)使石墨材料与分子或原子氧或能够释放分子或原子氧的物质接触，以获得由用氧基官能化的石墨材料（FOG）构成的前体，其特征在于碳/氧摩尔比高于8∶1，b)随后还原（化学或物理）所述FOG前体，以获得纳米级石墨烯薄片，其特征在于碳/氧摩尔比高于20∶1。 | ||
| 搜索关键词： | 极性 聚合物 基质 具有 分散性 纳米 石墨 薄片 制备 方法 相关 聚合 组合 | ||
【主权项】：
一种制造纳米级石墨烯薄片的方法，包括：a)使石墨材料与分子或原子氧或能够释放分子或原子氧的物质接触，以获得由用氧基官能化的石墨材料（FOG）构成的前体，其特征在于碳/氧摩尔比高于8:1，b)随后化学或物理还原所述FOG前体，以获得纳米级石墨烯薄片，其特征在于碳/氧摩尔比高于20:1。
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