[发明专利]辐射源、光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201080055711.9 | 申请日： | 2010-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN102652286A | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | A·凯姆鹏;R·布吕尔斯;E·鲁普斯特拉;R·莫尔斯;G·斯温克尔斯;W·梅斯特罗姆 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种辐射源生成用于光刻设备的极紫外辐射，作为设置有低压氢气环境的腔。痕量的保护性化合物，例如H2O，H2O2，O2，NH3或NOx，被提供至所述腔，以辅助保持在腔中的金属，例如钛部件上的保护性氧化物膜。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种辐射源装置，构造和布置成供给极紫外辐射束至光刻设备，所述辐射源装置包括：真空腔，包封辐射生成元件；气体供给装置，布置成供给氢气到所述真空腔；和保护装置，布置成供给痕量的保护性化合物至所述真空腔。
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