[发明专利]用于控制等离子体处理系统的方法和装置有效
| 申请号： | 201080052567.3 | 申请日： | 2010-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN102612864A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | 约翰·C·小瓦尔科 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了一种用于通过测量RF驱动等离子体中的RF电压信号补偿晶片的偏压电压的方法和装置，其包括至少静电卡盘（ESC），电容分压器，信号处理和信号调整网络。该偏压补偿装置包括监测在ESC处的RF电压的电容分压器、滤波相关的具体的RF信号的信号调整网络以及根据经滤波的RF信号计算DC晶片电位的信号处理单元。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 控制 等离子体 处理 系统 方法 装置 | ||
【主权项】：
用于控制使用多RF频率运行的等离子体处理系统的方法，其包括：通过高阻抗路径从RF检测机构获取RF电压信号；处理所述RF电压信号以获取多个信号，所述多个信号包括至少单个的信号，该至少单个的信号响应于所述多个RF频率中的单个的RF频率；输入所述多个信号至传递函数；以及提供所述传递函数的输出作为控制信号以控制所述等离子体处理系统的至少子系统。
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