[发明专利]用于收集或发射辐射的装置的保护性基片无效
| 申请号： | 201080050921.9 | 申请日： | 2010-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN102714279A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | C.图马策特;E.瓦朗坦;S.罗什 | 申请（专利权）人： | 圣戈班高性能塑料公司 |
| 主分类号： | H01L51/52 | 分类号： | H01L51/52;C23C16/34;G02B1/11;H01L31/0216 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李进;李炳爱 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 用于收集或发射辐射的装置(50)的该基片(11)包含透明聚合物层(1)和在聚合物层的至少一个面(1A)上的阻挡层(2)。阻挡层(2)由具有交替较低折光指数和较高折光指数和交替较低密度和较高密度二者的至少两个透明薄层(21,22,23,24)的抗反射多层组成，其中阻挡层(2)的组成多层的各薄层(21,22,23,24)为氧化物、氮化物或氧氮化物层。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 收集 发射 辐射 装置 保护性 | ||
【主权项】：
保护性基片(11;111;211)，其用于包含收集或发射辐射的至少一个元件(12;13)的装置(50;60)，该基片包含透明聚合物层(1;101;201)和在聚合物层的至少一个面(1A;101B;201A,201B)上的阻挡层(2;103;202,203)，其特征在于该或各阻挡层(2;103;202,203)由具有交替较低折光指数和较高折光指数和交替较低密度和较高密度二者的至少两个透明薄层(21,22,23,24;131,132;221,222,231,232)的抗反射多层组成，该或各阻挡层(2;103;202,203)的组成多层的各薄层(21,22,23,24;131,132; 221,222,231,232)为氧化物、氮化物或氧氮化物层。
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