[发明专利]涡旋式流体装置有效

专利信息
申请号: 201080044204.5 申请日: 2010-10-12
公开(公告)号: CN102575672A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 饭塚二郎;后藤和彦;寺内清 申请(专利权)人: 三电有限公司
主分类号: F04C18/02 分类号: F04C18/02;F04C29/06;F04C29/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 马洪
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种涡旋式流体装置,其能兼顾减少吸入压力损失和抑制排出波动及降低噪音。在配置于前壳与后壳之间的中心壳的内部将定涡盘构件与所述中心壳一体形成,并且以定涡盘构件的端板为高度方向上的位置基准,将中心壳的外壳罩的端面位置处的高度设置得比定涡盘构件的螺旋卷绕部的高度低,并形成长廊状空间,该长廊状空间由中心壳的外壳罩形成部、前壳的外壳内表面、定涡盘构件的螺旋卷绕部和动涡盘构件的端板围起且在装置周向上延伸。
搜索关键词: 涡旋式 流体 装置
【主权项】:
一种涡旋式流体装置,在定涡盘构件的端板上一体形成有螺旋卷绕部,在动涡盘构件的端板上一体形成有螺旋卷绕部,将两个涡盘构件配置成使两个螺旋卷绕部的角度相互错开且两个螺旋卷绕部的侧壁局部接触,使所述动涡盘构件在自转受阻的状态下在圆轨道上公转运动,来使在两个螺旋卷绕部之间形成的密闭的空间即流体槽从螺旋卷绕部的外端部向中心部、或从中心部向外端部移动,从而使所述流体槽的容积变化,其特征在于,在配置于涡旋式流体装置的前壳与后壳之间的中心壳的内部将所述定涡盘构件与所述中心壳一体形成,并且以所述定涡盘构件的端板为高度方向上的位置基准,将所述中心壳的外壳罩的端面位置处的高度设置得比所述定涡盘构件的螺旋卷绕部的高度低,并形成长廊状空间,该长廊状空间由所述中心壳的外壳罩形成部、所述前壳的外壳内表面、所述定涡盘构件的螺旋卷绕部和所述动涡盘构件的端板围起,且在装置周向上延伸。
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