[发明专利]对聚合物膜基材赋予局部全息效应的方法无效
| 申请号： | 201080043300.8 | 申请日： | 2010-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN102667641A | 公开（公告）日： | 2012-09-12 |
| 发明（设计）人： | H.孙;J.张 | 申请（专利权）人： | 宝洁公司 |
| 主分类号： | G03H1/00 | 分类号： | G03H1/00;G03H1/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 封新琴 |
| 地址： | 美国俄亥俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种对聚合物膜基材(20)赋予局部全息效应的方法，所述聚合物膜基材包括第一表面和第二表面。所述方法包括以下步骤：压花所述聚合物膜基材(20)的第一表面(25)以对聚合物膜基材赋予全息效应；以及在经选择的区域(24)上用油墨和/或清漆印刷所述聚合物膜基材的压花的第一表面，所述区域不旨在具有全息效应；以及留下所述未印刷的压花区域以提供全息效应。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 基材 赋予 局部 全息 效应 方法 | ||
【主权项】：
一种对聚合物膜基材赋予局部全息效应的方法，所述聚合物膜基材包括第一表面和第二表面，其中所述方法包括以下步骤：(a)压花所述聚合物膜基材的第一表面以对所述聚合物膜基材上的压花区域赋予全息效应；以及(b)在经选择的区域上用油墨和/或清漆印刷所述聚合物膜基材的所述压花的第一表面，所述区域不旨在具有全息效应；以及留下所述未印刷的压花区域以提供全息效应。
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