[发明专利]用于微光刻投射曝光设备中的反射镜有效
| 申请号： | 201080041007.8 | 申请日： | 2010-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN102498419A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | 马丁.罗克泰希尔;哈特穆特.恩基希;弗朗兹-约瑟夫.斯蒂克尔;奥利弗.纳特;汉斯-于尔根.曼;萨斯查.米古拉 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 吴艳 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及用于微光刻投射曝光设备中的反射镜，包括基底和反射涂层，其中反射涂层本身依次包括第一和第二层组。此情况中，第二层组布置在基底和第一层组之间。此外，第一和第二层组都包括多个彼此上下布置的交替的第一和第二层，其中第一层包括第一材料，对于具有5-30nm范围中的波长的辐射，第一材料的折射率大于第二层所包括的第二材料的折射率。此情况中，第一层组构造为包括超过20的层数，从而在利用具有5-30nm范围中的波长的辐射照射时，少于20％的辐射到达第二层组，并且第二层组具有层厚度变化用于校正反射镜的表面形状。由此所实现的是具有用于校正反射镜的表面形状的层厚度变化的第二层组不显著影响反射镜的反射特性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 微光 投射 曝光 设备 中的 反射 | ||
【主权项】：
用于微光刻投射曝光设备中的反射镜(1、201、301)，包括基底(3、203、303)和反射涂层，其中，所述反射涂层包括第一层组(19、219、319)并包括第二层组(21、221、321)，其中，所述第二层组(21、221、321)布置在所述基底(3、203、303)与所述第一层组(19、219、319)之间，其中，所述第一层组(19、219、319)与所述第二层组(21、221、321)包括多个彼此上下布置的交替的第一层(9、209、309)和第二层(11、211、311)，其中所述第一层(9、209、309)包括第一材料，对于具有5‑30nm范围中的波长的辐射，所述第一材料的折射率大于所述第二层(11、211、311)所包括的第二材料的折射率，其特征在于，所述第一层组(19、219、319)包括大于20的层数，从而在利用具有5‑30nm范围中的波长的辐射照射时，少于20％的辐射到达所述第二层组(21、221、321)，并且其中所述第二层组(21、221、321)具有层厚度变化，用于校正所述反射镜(1、201、301)的表面形状。
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