[发明专利]流体的去污染产品及获得方法有效
申请号: | 201080039087.3 | 申请日: | 2010-07-13 |
公开(公告)号: | CN102482119A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 塞里尼·迪乌姆 | 申请(专利权)人: | 塞里尼·迪乌姆 |
主分类号: | C02F1/28 | 分类号: | C02F1/28;C02F9/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张力更 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及流体的去污染产品(10),其包含一方面是具有内部和外部比表面(14)的多孔体(12),并且另一方面是覆盖该多孔体(12)的内部和外部比表面(14)的至少一部分的至多纳米级厚度的金属化层(16)。该金属化层(16)包含至少一种通过由分子内力的作用所产生的化学键(18)与多孔体(12)结合的金属(Ag)。另外,该金属化层(16)包含通过由分子内力的作用所产生的化学键(18)同样与多孔体(12)结合的硅(Si)。本发明还涉及去污染产品(10)的获得方法,包括具有内部和外部比表面(14)的多孔体(12)的处理步骤(102),该步骤在具有惰性气体等离子体和射频放电的沉积反应器(24)中通过将该多孔体(12)浸入等离子体中并且将金属(Ag)注入等离子体中来进行。多孔体的处理步骤(102)还包括在等离子体中注入硅(Si)。 | ||
搜索关键词: | 流体 污染 产品 获得 方法 | ||
【主权项】:
流体的去污染产品(10),其包含一方面是具有内部和外部比表面(14)的多孔体(12),并且另一方面是覆盖该多孔体(12)的内部和外部比表面(14)的至少一部分的至多纳米级厚度的金属化层(16),该金属化层(16)包含至少一种通过由分子内力的作用所产生的化学键(18)与多孔体(12)结合的金属(Ag),其特征在于该金属化层(16)还包含通过由分子内力的作用所产生的化学键(18)同样与多孔体(12)结合的硅(Si)。
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