[发明专利]用于散射介质中改进的扩散发光成像或者断层照相的系统、方法和发光标记物有效
| 申请号： | 201080030265.6 | 申请日： | 2010-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN102497803A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·安德森·恩格斯;C.徐;H.刘;约翰·阿克塞尔森;尼克拉斯·斯文森;庞图斯·斯文马克 | 申请（专利权）人： | 卢米托股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B5/00 | 分类号： | A61B5/00;G01N21/47;G01N21/64 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘春元;卢江 |
| 地址： | 瑞典*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
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| 摘要： | 公开一种用于散射介质中的感兴趣区域的发光分子成像或者断层照相的方法和系统。该系统包括布置于散射介质中的非线性发光标记物材料。因此改进成像或者断层照相的对比度和分辨率。非线性标记物例如被配置成上变频照射波长的传入光。标记物的非线性功率依赖性通过使用同时以两个或者更多激励束拍摄的图像来实现进一步的成像改进。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 散射 介质 改进 扩散 发光 成像 或者 断层 照相 系统 方法 标记 | ||
【主权项】：
一种通过扩散发光分子成像对散射介质中的区域成像的方法，所述区域包括：在标记物位置处布置于所述散射介质中的至少一个发光标记物，其中所述发光标记物是非线性发光标记物；所述方法包括：一个或者多个光源从至少一个光源位置向激励体积中发射的激励光激励所述发光标记物，以及检测器在发光光检测位置检测由于所述激励光而来自所述发光标记物的发光，提供在所述光源位置与所述标记物位置之间的移动，基于所述检测的发光对所述激励光强度的非线性依赖性和相对于所述标记物位置的所述光源位置对所述发光标记物成像。
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