[发明专利]重叠测量的方法、光刻设备、检查设备、处理设备和光刻处理单元

摘要

为了改善重叠测量，通过使用散射术由对准传感器在光刻设备中测量衬底上的产品标识光栅。之后，关于产品标识光栅的横向轮廓的信息，诸如其不对称性，由所述测量确定。在将重叠标识光栅印刷到抗蚀剂膜上之后，重叠标识光栅相对于产品标识光栅的横向重叠被通过散射术和利用已确定的不对称性信息结合适合的过程模型进行测量。可以将对准传感器数据用于首先重新构建产品光栅，该信息被前馈至散射仪，其测量产品和抗蚀剂光栅的叠层，由该叠层散射的光被用于重新构建叠层的模型，以计算重叠。所述重叠之后可以可选地被反馈至光刻设备，用于校正重叠误差。

主权项

一种测量第一标识和第二标识在衬底上的横向重叠的方法，所述方法包括步骤：在所述衬底上测量所述第一标识的性质，所述第一标识的性质依赖于所述第一标识的横向轮廓；根据所述第一标识的所测量的性质确定与所述第一标识的横向轮廓相关的信息；利用光刻设备将所述第二标识印刷到所述衬底上，包括将所述第二标识与所述衬底对准；利用所确定的信息，测量所述第二标识相对于所述第一标识的在所述衬底上的横向重叠。