[发明专利]边发射的半导体激光器有效

专利信息
申请号: 201080018847.2 申请日: 2010-04-22
公开(公告)号: CN102414944A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 马克·施尔格雷安斯;斯蒂芬·鲁特格恩;尤伟·斯特劳斯 申请(专利权)人: 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
主分类号: H01S5/20 分类号: H01S5/20;H01S5/0683
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 许伟群;郭放
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 提出了一种边发射的半导体激光器,具有半导体本体(10),所述半导体本体具有波导区域(4),其中波导区域(4)具有第一波导层(2a)、第二波导层(2b)和设置在第一波导层(2a)和第二波导层(2b)之间的用于产生激光辐射(5)的有源层(3),波导区域(4)设置在第一覆盖层(1a)和第二覆盖层(1b)之间,所述第二覆盖层在半导体本体(10)的生长方向上设置在波导区域(4)之后。波导区域(4)具有400nm或者更小的厚度(d),以及在平行于有源层(3)的层平面的方向上从半导体本体(10)出射的激光辐射(5)的发射角和在垂直于有源层(3)的层平面的方向上从半导体本体(10)出射的激光辐射(5)的发射角彼此相差小于3倍。
搜索关键词: 发射 半导体激光器
【主权项】:
一种边发射的半导体激光器,具有半导体本体(1),所述半导体本体具有波导区域,其中—波导区域(4)具有第一波导层(2A)、第二波导层(2B)和设置在第一波导层(2A)和第二波导层(2B)之间的用于产生激光辐射(5)的有源层(3),—波导区域(4)设置在第一覆盖层(1A)和第二覆盖层(1B)之间,所述第二覆盖层在半导体本体(10)的生长方向上设置在波导区域(4)之后,其特征在于,—波导区域(4)具有400nm或者更小的厚度d,以及—在平行于有源层(3)的层平面的方向上从半导体本体(10)出射的激光辐射(5)的发射角αP和在垂直于有源层(3)的层平面的方向上从半导体本体(10)出射的激光辐射(5)的发射角αS彼此相差小于3倍。
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