[发明专利]ALD系统和方法有效
| 申请号： | 201080018411.3 | 申请日： | 2010-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN102414824A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 埃里克·W·德贡斯;加内什·M·孙达拉姆;罗杰·R·库蒂;吉尔·斯文亚·贝克 | 申请（专利权）人： | 剑桥纳米科技公司 |
| 主分类号： | H01L29/76 | 分类号： | H01L29/76;C23C16/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有;李翔 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种配置为双室“塔”的气体沉积系统(1000)，其包括用于支撑相互垂直的两个反应室组合件的框架(1140)。每个反应室组合件(3000)均包括环绕中空室(3070)的外壁组合件，所述中空室的尺寸为容纳穿过装载口的单个4.5代(GEN 4.5)玻璃板衬底。所述衬底水平设置在中空室(3070)中，并且室组合件(3000)包括设置在中空室(3070)外部并配置为在衬底顶表面上产生基本水平方向的层流气流的可拆卸和可清洁的三角形输入(3150)和输出(3250)增压部。每个室包括设置在中空室(3070)中的可清洁和可拆卸的室衬里组合件(6000)，以将前体气体容纳在其中，从而防止污染室外壁(3010，3020，3030，3040)。 | ||
| 搜索关键词： | ald 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于将薄膜层沉积到一个或更多个衬底上的反应室组合件(3000、8100)，其包括：‑用于封闭中空室的外壁组合件，包括与基本相对的左外侧壁和右外侧壁(3030，3040)和基本相对的前外壁和后外壁(3042，3044)相连的基本相对的顶外壁和底外壁(3010，3020)；‑气体供应模块，用于将一种或更多种气体和气相材料递送到所述中空室中；‑真空泵，用于从所述中空室移除气体和气相材料；‑其特征在于，所述反应室组合件还包括：‑矩形输入孔(3140)，其延伸穿过所述左外侧壁和右外侧壁(3030)、(3040)之一；‑矩形输出孔(3130)，其延伸穿过所述左外侧壁和右外侧壁(3040)中的另一个，其中所述输入矩形孔和所述输出矩形孔相对设置并具有基本相同的孔尺寸；‑输入增压部(3150)，其设置在所述外壁组合件的外部并且与所述气体供应模块流体连通，用于将所述一种或更多种气体和气相材料通过所述输入矩形孔递送到所述中空室中；和‑输出增压部(3250)，其设置在所述外壁组合件的外部并且与所述真空泵流体连通，用于通过所述输出矩形孔从所述中空室移除气体和气相材料。
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