[发明专利]基于芳香四羧基二苯并咪唑衍生物的溶致液晶体系及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201080013002.4 申请日: 2010-02-24
公开(公告)号: CN102361871A 公开(公告)日: 2012-02-22
发明(设计)人: 罗伯特·拉米莱兹;郑世俊;姜忠成;汪双喜;山本道治 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: C07D471/22 分类号: C07D471/22
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;阴亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开了衍生自芳香四羧基二苯并咪唑类的化合物。这些化合物能够形成液晶体系,该液晶体系能制备具有期望的光学性质的光学各向同性或各向异性的膜。本发明还公开了通式(I)或(II)的化合物或其盐,其中y为0至约4的整数。
搜索关键词: 基于 芳香 羧基 苯并咪唑 衍生物 液晶 体系 及其 制备 方法
【主权项】:
1.由结构通式(I)或(II)表示的溶致发光团化合物或其盐:其中y为0至约4的整数;各个R1和R2独立地选自-H、-OH、-NH2、-Cl、-Br、-I、-NO2、-F、-CF3、-CN、-COOH、-CONH2、任意取代的C1至C6烷基任意取代的C2至C6乙酰基任意取代的C6至C10芳基任意取代的C2至C6炔基、任意取代的C2至C6烯基、任意取代的C1至C6烷氧基、任意取代的C1至C6烷氨基、-L1-(M1)r、-L2-(M2)s以及下列通式(III)、(IV)和(V):其中L1和L2各自独立地表示亲水连接基团;各个M1和M2独立地表示酸性基团、碱性基团或其盐;各个r独立地为1或2;各个s独立地为1或2;R3独立地由-NH-、-CONH-、-O-或-COO-表示;R4、R5、R6和R7各自独立地选自氢、任意取代的C1至C6烷基、任意取代的C2至C6烯基、任意取代的C2至C6炔基、由至少一个羟基取代的任意取代的C1至C6烷基、任意取代的C3至C8环烷基、任意取代的C6至C10芳基以及任意取代的C7至C16芳烷基;且z为0至约4的整数。
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