[发明专利]光照射装置及检查装置无效
| 申请号： | 201080010798.8 | 申请日： | 2010-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN102341645A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 中村笃;南功治 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | F21V9/08 | 分类号： | F21V9/08;F21S2/00;G02B3/08;G02B5/20;F21Y101/00;F21Y101/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种照射具有期望的光谱、且方向性被控制的光的光照射装置。本发明所涉及的光照射装置(100)包括光源(101)、导光体(107)、光谱调制用构件(104)，导光体(107)将从光源(101)入射的光从入射面引导至其内部，使该光在导光体(107)的侧面反射，将方向性被控制的光从出射面出射，光谱调制用构件(104)使方向性被控制的所述光的、特定的波长带的光谱衰减，在导光体(107)中，所述入射面小于所述出射面，在导光体(107)的出射面侧包括光谱调制用构件(104)。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 装置 检查 | ||
【主权项】：
一种光照射装置，包括光源、导光体、光谱调制用构件，其特征在于，所述导光体将从所述光源入射的光从入射面引导至所述导光体的内部，使该光在该导光体的侧面反射，将方向性被控制的光从出射面出射，所述光谱调制用构件使方向性被控制的所述光的、特定的波长带的光谱衰减，在所述导光体中，所述入射面小于所述出射面，在所述导光体的出射面侧包括所述光谱调制用构件。
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