[实用新型]阳离子源装置有效
| 申请号： | 201020668539.1 | 申请日： | 2010-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN201910395U | 公开（公告）日： | 2011-07-27 |
| 发明（设计）人： | 苏新虹;朱兴华 | 申请（专利权）人： | 北大方正集团有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/08;H01J37/143 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 李娟 |
| 地址： | 100871 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及离子束蚀刻领域，特别涉及一种阳离子源装置，能够减少作为阴极的磁极和阳极间短路的风险，并且能够延长磁极的使用寿命。本实用新型的阳离子源装置，包括：腔体、内磁极、外磁极、永磁体以及阳极，其中，所述内磁极内表面包括：第一接触区域，其至少部分地与永磁体的上表面接触；和第一非接触区域，其至少部分地与永磁体的上表面不接触；其中，所述第一非接触区域的至少一部分相对于所述第一接触区域而凹陷或向外倾斜。 | ||
| 搜索关键词： | 阳离子 装置 | ||
【主权项】：
一种阳离子源装置，包括：腔体、内磁极、外磁极、永磁体以及阳极，其特征在于，所述内磁极内表面包括：第一接触区域，其至少部分地与永磁体的上表面接触；和第一非接触区域，其至少部分地与永磁体的上表面不接触；其中，所述第一非接触区域的至少一部分相对于所述第一接触区域而凹陷或向外倾斜。
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