[实用新型]低电压/低漏电流的TVS二极管器件有效

专利信息
申请号: 201020595246.5 申请日: 2010-11-05
公开(公告)号: CN201898136U 公开(公告)日: 2011-07-13
发明(设计)人: 袁德成;张意远;俞栋梁;郭银银 申请(专利权)人: 上海美高森美半导体有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/167;H01L29/06
代理公司: 上海京沪专利代理事务所(普通合伙) 31235 代理人: 周志宏
地址: 201108 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及一种低电压/低漏电流的TVS二极管器件,包括有由中间层单晶硅本体、依附在中间层单晶硅本体的上掺杂层和下掺杂层组成的芯片体、钝化保护层、上电极金属层、下电极金属层;所述由上掺杂层为扩散形成的P型硼扩散区及P型硼扩散区的中间段具有P/P+/N/N+结构的P型铝扩散区组成,下掺杂层为扩散形成的N型磷扩散区,上电极金属层位于两钝化保护层之间的P型硼扩散区及P型铝扩散区的外侧,下电极金属层位于下掺杂层N型磷扩散区的外侧。本实用新型具有以下优点:硅片切割为芯片时在预留机械切割区域切割,避免了切割刀直接作用在玻璃钝化层上,切割损伤层及扩展损伤层均落在芯片不使用区域内,产品质量得以保证。
搜索关键词: 电压 漏电 tvs 二极管 器件
【主权项】:
一种低电压/低漏电流的TVS二极管器件,包括有由中间层单晶硅本体、依附在中间层单晶硅本体的上掺杂层和下掺杂层组成的芯片体、钝化保护层、上电极金属层、下电极金属层,其特征在于,所述由上掺杂层为扩散形成的P型硼扩散区及P型硼扩散区的中间段具有P/P+/N/N+结构的P型铝扩散区组成,P型硼扩散区外侧单晶硅本体表面附有钝化保护层,下掺杂层为扩散形成的N型磷扩散区,上电极金属层位于两钝化保护层之间的P型硼扩散区及P型铝扩散区的外侧,下电极金属层位于下掺杂层N型磷扩散区的外侧。
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