[实用新型]一种反射式暗场显微镜的照明系统有效
申请号: | 201020577904.8 | 申请日: | 2010-10-25 |
公开(公告)号: | CN201886198U | 公开(公告)日: | 2011-06-29 |
发明(设计)人: | 崔志英;丁彩玉 | 申请(专利权)人: | 宁波永新光学股份有限公司 |
主分类号: | G02B21/10 | 分类号: | G02B21/10;F21V17/00 |
代理公司: | 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 | 代理人: | 徐雪波 |
地址: | 315040 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种反射式暗场显微镜的照明系统,包括发光源,环形光阑,反射抛物曲面,其特征在于:所述反射抛物曲面的安装位置满足以下要求:从所述发光源发出的光经所述环形光阑平行入射至所述反射抛物曲面后,经所述反射抛物曲面发射后的光会聚的焦点偏离所述反射式暗场显微镜的物镜中心轴,并且所述反射式暗场显微镜的载物台设置在所述反射抛物曲面的反射光域内。与现有技术相比,本实用新型的优点在于:将反射抛物曲面设置的位置满足经过反射抛物曲面发射后的光会聚的焦点偏离所述反射式暗场显微镜的物镜中心轴后,可有效提高光源的利用率,简化计算过程。 | ||
搜索关键词: | 一种 反射 暗场 显微镜 照明 系统 | ||
【主权项】:
一种反射式暗场显微镜的照明系统,包括发光源,环形光阑,反射抛物曲面,其特征在于:所述反射抛物曲面的安装位置满足以下要求:从所述发光源发出的光经所述环形光阑平行入射至所述反射抛物曲面后,经所述反射抛物曲面发射后的光会聚的焦点偏离所述反射式暗场显微镜的物镜中心轴,并且所述反射式暗场显微镜的载物台设置在所述反射抛物曲面的反射光域内。
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