[实用新型]摩擦布有效
申请号: | 201020568140.6 | 申请日: | 2010-10-14 |
公开(公告)号: | CN201864862U | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 任健 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | D03D27/12 | 分类号: | D03D27/12;D06M15/00;G02F1/1337 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 张丽荣 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种摩擦布,涉及纺织品技术领域,实现了TFT阵列基板在取向摩擦工艺中碎屑的掉落、又加深了取向沟槽的深度。本实用新型实施例中摩擦布,包括用于进行摩擦的摩擦面;所述摩擦面包括与基板上有效显示区域相对应的第一摩擦区域,所述第一摩擦区域的材料为呢绒;所述摩擦面还包括与所述有效显示区域侧边的区域对应的第二摩擦区域,所述第二摩擦区域的材料为棉。本实用新型实施例主要用在TFT阵列基板的摩擦工艺中。 | ||
搜索关键词: | 摩擦 | ||
【主权项】:
一种摩擦布,包括用于进行摩擦的摩擦面,其特征在于,所述摩擦面包括与基板上有效显示区域相对应的第一摩擦区域,所述第一摩擦区域的材料为呢绒;所述摩擦面还包括与所述有效显示区域侧边的区域对应的第二摩擦区域,所述第二摩擦区域的材料为棉。
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