[实用新型]一种用于晶圆的刷洗装置无效
申请号: | 201020518137.3 | 申请日: | 2010-09-03 |
公开(公告)号: | CN201946573U | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
发明(设计)人: | 路新春;梅赫赓;裴召辉;黄雅婷;何永勇;雒建斌 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;B08B1/04 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 贾玉 |
地址: | 100084 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于晶圆的刷洗装置,包括机架;支撑部件,所述支撑部件设置在所述机架上以支撑晶圆;清洗液供给单元,所述清洗液供给单元设置在机架上用于向晶圆的表面施加清洗液;以及一对刷子,所述一对刷子包括刷子主体和设置于刷子主体表面上的多个毛束,且所述一对刷子可旋转地设置在所述机架上以将晶圆夹在它们之间刷洗晶圆表面同时在晶圆上产生驱动所述晶圆转动的扭矩。根据本实用新型实施例的用于晶圆的刷洗装置,由毛刷对晶圆产生的扭矩驱动晶圆转动,因此不需另设晶圆驱动装置,且结构简单可靠,降低了设备设计制造成本。而且由于刷子旋转、晶圆转动和支撑滚轮转动之间是“柔性”的随动关系,不易发生因转动失衡而碎片的情况。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 刷洗 装置 | ||
【主权项】:
一种用于晶圆的刷洗装置,其特征在于,包括:机架;支撑部件,所述支撑部件设置在所述机架上以支撑晶圆;清洗液供给单元,所述清洗液供给单元设置在所述机架上用于向晶圆的表面施加清洗液;以及一对刷子,所述一对刷子包括刷子主体和设置于所述刷子主体表面上的多个毛束,且所述一对刷子可旋转地设置在所述机架上以将晶圆夹在它们之间刷洗晶圆表面同时在晶圆上产生驱动所述晶圆转动的扭矩。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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